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擴(kuò)展型等離子清洗機(jī)的清洗原理與創(chuàng)新

發(fā)布時(shí)間: 2017-05-16  點(diǎn)擊次數(shù): 1735次
   擴(kuò)展型等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機(jī)外接一臺真空泵,工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被*地清洗掉,同時(shí)污染物被真空泵抽走,其清洗程度達(dá)到分子級。擴(kuò)展型等離子清洗機(jī)除了具有超清洗功能外,在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能,等離子體作用于材料表面,使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組,形成新的表面特性。對某些有特殊用途的材料,在超清洗過程中擴(kuò)展型等離子清洗機(jī)的輝光放電不但加強(qiáng)了這些材料的粘附性、相容性和浸潤性,并可消毒和殺菌。等離子清洗器廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。
  擴(kuò)展型等離子離子體是氣體分子在真空、放電等特殊場合下產(chǎn)生的物質(zhì)。等離子清洗/刻蝕產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電磁場,用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度,隨著氣體越來越稀薄,分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也越來越長,受磁場作用,發(fā)生碰撞而形成等離子體,同時(shí)會(huì)發(fā)生輝光。等離子體在電磁場內(nèi)空間運(yùn)動(dòng),并轟擊被處理物體表面,從而達(dá)到表面處理、清洗和刻蝕的效果。
  擴(kuò)展型等離子清洗機(jī)的等離子技術(shù):
  等離子清洗技術(shù)清除金屬、陶瓷、塑料表面的有機(jī)污染物,可以顯著加強(qiáng)這些表面的粘性及焊接強(qiáng)度。離子化過程能夠容易地控制和安全地重復(fù)。如果有效的表面處理對于產(chǎn)品的可靠性或過程效率的提高是至關(guān)重要的,那么等離子技術(shù)對你也許就是的技術(shù)。
  通過表面活化、蝕刻、表面沉積,等離子技術(shù)可以改善絕大多數(shù)物質(zhì)的性能:潔凈度、親水性、斥水性、粘結(jié)性、標(biāo)刻性、潤滑性、耐磨性。
  擴(kuò)展型等離子清洗機(jī)的清洗原理與創(chuàng)新:
  給一組電極施以射頻電壓(頻率約為幾十兆赫茲),電極之間形成高頻交變電場,區(qū)域內(nèi)氣體在交變電場的激蕩下,形成等離子體,活性等離子對被清洗物進(jìn)行物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)雙重作用,使被清洗物表面物質(zhì)變成粒子和氣態(tài)物質(zhì),經(jīng)過抽真空排出,而達(dá)到清洗目的。
  實(shí)際上,在整個(gè)制造過程中,等離子清洗系統(tǒng)的關(guān)鍵控制要素包括過程溫度、射頻功率、氣體分配、真空度、電極設(shè)置、靜電保護(hù)等等。對系統(tǒng)和這些交互影響參數(shù)的控制對于系統(tǒng)性能是zui為關(guān)鍵的。
  擴(kuò)展型等離子清洗機(jī)已應(yīng)用于各種電子元件的制造,可以確信,沒有等離子清洗機(jī)及其清洗技術(shù),就沒有今日這么發(fā)達(dá)的電子、資訊和通訊產(chǎn)業(yè)。此外,等離子清洗機(jī)及其清洗技術(shù)也應(yīng)用在光學(xué)工業(yè)、機(jī)械與航天工業(yè)、高分子工業(yè)、污染防治工業(yè)和量測工業(yè)上,而且是產(chǎn)品提升的關(guān)鍵技術(shù),比如說光學(xué)元件的鍍膜、延長模具或加工工具壽命的抗磨耗層,復(fù)合材料的中間層、織布或隱性鏡片的表面處理、微感測器的制造,超微機(jī)械的加工技術(shù)、人工關(guān)節(jié)、骨骼或心臟瓣膜的抗摩耗層等皆需等離子技術(shù)的進(jìn)步,才能開發(fā)完成。
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