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簡(jiǎn)要描述:光學(xué)元件原子級(jí)拋光鍍膜設(shè)備:NANO-MASTER 離子束清洗拋光-磁控濺射鍍膜系統(tǒng)提供*進(jìn)的技術(shù),在一個(gè)腔體中實(shí)現(xiàn)原子級(jí)清洗和光學(xué)樣片拋光,然后把樣片傳送到第二級(jí)腔體中對(duì)同一樣片進(jìn)行表面涂覆,整個(gè)過程不間斷真空。系統(tǒng)的設(shè)計(jì)也可以支持其中任一個(gè)腔體的單獨(dú)使用,同時(shí)具備各自的自動(dòng)上/下載片功能。
產(chǎn)品型號(hào):
所屬分類:光學(xué)元件原子級(jí)拋光鍍膜設(shè)備
更新時(shí)間:2017-03-03
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
光學(xué)元件原子級(jí)清洗鍍膜系統(tǒng)
光學(xué)元件原子級(jí)拋光鍍膜設(shè)備概述:NANO-MASTER 離子束清洗拋光-磁控濺射鍍膜系統(tǒng)提供*進(jìn)的技術(shù),在一個(gè)腔體中實(shí)現(xiàn)原子級(jí)清洗和光學(xué)樣片拋光,然后把樣片傳送到第二級(jí)腔體中對(duì)同一樣片進(jìn)行表面涂覆,整個(gè)過程不間斷真空。系統(tǒng)的設(shè)計(jì)也可以支持其中任一個(gè)腔體的單獨(dú)使用,同時(shí)具備各自的自動(dòng)上/下載片功能。
光學(xué)元件原子級(jí)拋光鍍膜設(shè)備應(yīng)用
Optical Coatings 光學(xué)涂層
Sputtering 濺射
IBAD IBAD離子束輔助沉積
Ion Beam Etching Cleaning 離子束刻蝕清洗
Ion Beam Assisted Reactive Etching 離子束輔助反應(yīng)刻蝕
Infrared Coatings 紅外涂層
Surface Treatment 表面處理
產(chǎn)品特點(diǎn):
RF Biasable Platen RF射頻偏壓樣品臺(tái)
Thickness Monitor 膜厚監(jiān)測(cè)儀
5x10-7 Torr Base Pressure 極限真空5x10-7Torr
High Accuracy and Repeatability 高精度及高重復(fù)性
High Quality Films 高品質(zhì)膜層
Atomic Level Clean Surfaces 原子級(jí)的潔凈表面
Atomic Cleaning and Polishing 原子級(jí)清洗和拋光
PC Controlled with LabVIEW 通過LabView軟件實(shí)現(xiàn)PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制
Automatic Load/Unload 自動(dòng)上下載片
Automatic Transfer Between Chambers 兩個(gè)腔體之間自動(dòng)傳送
Recipe Driven, Password Protected 菜單驅(qū)動(dòng),4級(jí)密碼訪問保護(hù)
Safety Interlocks 完整的安全聯(lián)鎖
46”D x 44”W Footprint 占地面積46”D x 44”W
選配項(xiàng):
Sputter Down/Up 向下/向上濺射
Co-Sputtering 共濺射
DC, RF and Pulsed Power Supplies DC,RF以及脈沖電源
Ion Beam Assisted Deposition 離子束輔助沉積
E-Beam Sources 電子束源
Plasma Sources 等離子源