電子束蒸發(fā)技術(shù)

NEE-4000（M）電子束蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔體的配置，其中樣品臺(tái)位于主腔體內(nèi)，二級(jí)腔體則用于安置電子束源。這種在兩個(gè)腔體之間帶有門閥的配置可以作為預(yù)真空鎖，使得電子束源腔體保持真空的情況下，實(shí)現(xiàn)基片通過主腔體放入基片到樣平臺(tái)(或夾具)上或從中取出。在需要自動(dòng)裝/卸載基片時(shí)，他可以通過第三方的預(yù)真空鎖來實(shí)現(xiàn)，這可以設(shè)置于立方體的左側(cè)。通過PC計(jì)算機(jī)控制，系統(tǒng)可以提供多電子束源的共蒸發(fā)能力，以及對(duì)組分或組分梯度進(jìn)行編程的能力。

NEE-4000（M）電子束蒸發(fā)系統(tǒng)特點(diǎn)：

• 順序蒸發(fā)或共蒸發(fā)
• 雙電子束源
• 多凹槽電子槍
• 可編程電子束掃描
• 10KW開關(guān)電源
• 渦輪分子泵，極限真空5x10-7Torr
• 手動(dòng)上下載片，帶預(yù)真空鎖
• 材料和襯墊更換非常方便
• 晶振式膜厚監(jiān)測(cè)儀
• 通過LabView軟件實(shí)現(xiàn)PC計(jì)算機(jī)控制
• 菜單驅(qū)動(dòng)，四級(jí)訪問密碼保護(hù)
• *的安全聯(lián)鎖

Features：

• Sequential or Co-Evaporation 
• Dual E-Beam Source 
• Multi-Pocket E-Gun 
• Programmable Beam Scan
• 10 KW Switching Power Supply  
• Turbomolecular Pump, 10^-7Torr  
• Manual Load/Unload w/Load Lock  
• Easy Material and Liner Change
• Crystal Thickness Monitor 
• PC Controlled with LabVIEW 
• Recipe Driven, Password Protected  
• Fully Safety Interlocked